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Sep Métrologie Gestion Des Étalonnages
Ces mesures jumelées à des observations optiques de la surface rayée forme une empreinte unique au système couche/substrat étudié.
Trescal présentera les dernières évolutions de son logiciel de gestion de parc métrologique, Adveso®.
Cette solution innovante, clé en main est conçue pour piloter et optimiser l’activité métrologique des industriels. (image: https://picography.co/page/1/600)
Les innovations du logiciel permettent désormais aux utilisateurs d’interfacer leurs systèmes d’informations (ERP/PGI, instrument de mesure connecté, etc.) avec Adveso®.
Cette évolution facilitera la collecte d’informations liées aux instruments rendant possible la gestion plus fine de leurs périodicités.
La technique ALD repose sur l’auto-limitation de réactions chimiques successives sur la surface d’un substrat afin d'assurer un dépôt ayant une hauteconformité et un contrôle de l'épaisseur à l'échelle atomique.
Dans le système ALD150LX, l'échantillon est chargé à l’intérieur de la chambre à travers un orifice rectangulaire et positionnée où le dépôt sera effectué.
Jusqu'à quatre précurseurs ou entrées de gaz sont introduits à travers la plaque supérieure.
Grâce à l’association des services aux entreprises de l’ensemble des centres de services scolaires qui sont membres de Formation Québec en réseau, nous pouvons répondre à toute demande de formation.
Ci-dessous se trouve une vidéo du développement et de l'extinction d'une décharge HiPIMS unipolaire de 200 µs.
Les deux enregistrements ont été réalisés à l'aide d'une caméra haute vitesse utilisant deux séries de filtres interférentiels passe-bande pour sélectionner les raies d'émission de l'argon et du chrome.
L'échelle temporelle est indiquée en haut de l'image sous la forme "Time of discharge", qui correspond au délai après l'initiation du pulse.
Au LaRFIS, nous appliquons plusieurs de ces méthodes de pulvérisation haute densité afin de déposer des revêtements métalliques et diélectriques dans des réacteurs de tailles variées.
Ces activités de dépôt sont complémentées par des méthodes de diagnostic électrique et optique in situ de la décharge plasma.
Ces mesures permettent, entre autre, de quantifier l'effet d'une couche de passivation, https://Sepmetrologie.com/en/calibration-industrial-precision/ mesurer le potentiel libre, mesurer des courants de corrosion, etc.
Source LED pour les mesures en réflexion et source halogène pour les mesures en transmission.
La pulvérisation magnétron pulsée haute puissance est une variation de la pulvérisation DC pulsée se caractérisant par une densité de puissance instantanée supérieure à 100 Wcm-2 couplée à un faible rapport cyclique limitant la charge thermique moyenne sur le magnétron.
Cette configuration conduit à une décharge de haute densité, présentant un haut degré d'ionisation des particules pulvérisées.
La modélisation du comportement de la gaine en fonction de la chute de potentiel, proposé par Irving Langmuir permet alors d'extraire les paramètres du plasma.
Les données obtenues par spectroscopie d'émission optique contiennent un grand nombre d'information.
Chaque transition optique est précisément caractérisée par des transitions électroniques radiatives autorisées auxquels s'ajoutent les vibrations pour les particules polyatomiques.
Le positionnement de chaque raie donne donc des informations importantes sur la composition chimique du plasma alors que les intensités relatives donnent de l'information sur la répartition de l'énergie entre les espèces du plasma.
La spectroscopie d'émission optique est une méthode de caractérisation des plasmas non intrusive et non perturbatrice.
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